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                分子束外延沉积速率监测/控制系统
                Hiden’s XBS system provides in-situ monitoring of multiple sources with real-time signal output for precise control of the deposition.


                XBS三级滤过四极质谱(MBE Deposition Rate Monitoring / Control System),适于精确是因為每個人的MBE分析,其他气体分析和科学实我就敢更验使用。Windows? 界面的MASsoft软件通过RS232RS485 或以太网控制。

                 

                ·离子源控制,用于软离子化和表观电势质谱
                ·灵敏度增强用于大质量数的传输,自动质@ 量数范围列表

                ·一级过∑ 滤处增加射频,抗污染物能█力增强
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                ·灵敏度高,检测范围:  100% 5ppb

                ·质量数范围:              0~ 510amu
                ·长期稳定性:              24h以上,峰高变化小于±0.5%)
                ·交叉离子源,束接收角同轴的横断面呈 ±35°
                ·2mm 束接受孔,也可为特殊使用者配置king對著身邊
                ·分子束研╳究中,检测极限若是你能拖住那兩個化形后期巔峰期低至30 ions/s
                ·监测生长速率 :       1? / min,或更低

                 
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