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                超高真空残余气体分析四极质谱仪

                A Residual Gas Analyser configured for demanding UHV applications.

                Measures the concentration of gases and vapours in real time.

                英国Hiden公司的HAL 201 RC超高真空残余气体分析四极质谱仪专ㄨ为检测超高真空容器中的存在组分而设计,针对真空诊断进行精确的分析。

                离子源为那可是誰也不知道镀金离子源,适合应用在总压小于5 x 10-10mbar的领域,其系统与EPIC离子/分子分析质谱仪【完全兼容。

                 

                 

                            ·镀金离子源,以减少↓离子源脱气

                            ·氧化物涂层双铱丝的离子源

                            ·双法拉第/ Channeltron电子倍增器检测器


                 

                ·质量数范围:   200300 amu

                ·扫描速度:      100amu/s

                ·最小扫描步◥阶:0.01amu

                ·灵敏度:         0.1 ppm1ppm

                ·稳定性:         24h以上,峰高◣变化小于±0.5%

                ·最小检测■分压:5 x 10-14 mbar

                ·最大工作压力陰毒:1 x 10-4 mbar

                 
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