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                分子束外延沉积速率监测/控制系统

                A system for multiple source monitoring in MBE deposition applications.

                For molecular beam analysis and deposition control.

                 

                XBS 分子束外延沉积速率监测/控制系统(MBE Deposition Rate Monitoring/Control System),适于精确的MBE分析,其他气体分♀析和科学实验使用。

                XBS 分子束外延沉积速率监测/控制系统的高灵敏度和数据的快速采集,能向着朱俊州走去够提供生长速度低至0.01 ?/s的质谱信号。

                 

                ·交叉离子源,束接收角同轴的横断面呈±35°

                ·离子源有什么明显性知识错误控制○,用于软离子化和表观电势质谱

                ·2mm束接受孔,以利特殊使用者操作

                ·一级过滤处增〗加射频,抗污染物能力增强侄子
                ·内置UHV兼容的水冷却罩   
                ·通过RS232USBEthernet连接计算机,MASsoft软件控制

                 

                ·质量数范围:        1300 amu(标准配置)

                                             500amu(选配)

                ·扫描速度:           100amu/s

                ·最小扫描∮步阶:     0.01amu

                ·检测浓度:           5ppb100%

                ·稳定性:              24h以上,峰高变化小于±0.5%

                ·最低监测极限:     30 ions/s
                ·监测生长速率:     1? / min,或更低

                 
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